삼성전자가 채산성 문제로 올해 초 가동을 중단했던 화성 10라인과 관련, 기존 8인치(200㎜) 공정을 12인치(300㎜)로 전환하기 위한 조 단위 투자에 착수한 것으로 확인됐다. 10라인 총 투자 규모는 최소 1조 원에서 최대 4조 원에 달할 전망이다.
16일 업계 관계자는 "삼성전자가 화성 10라인을 12인치 공정으로 전환하기 위해 국내외 일부 장비기업들에 발주를 시작하는 등 투자에 본격 착수했다"며 "내년 상반기에 순차적으로 장비를 반입하고 시험생산을 거쳐 하반기부터 양산 체제로 전환할 전망"이라고 밝혔다.
삼성전자는 10라인 및 미국 오스틴 D램 라인 등 메모리반도체를 생산할 경우 채산성이 크게 떨어지는 8인치 라인 가동을 올 들어 잇달아 중단했다. 12인치 공정으로 반도체를 생산할 경우 8인치에 비해 단일 원판에서 생산되는 물량이 이론상 125%가량 늘어난다.
또 다른 업계 관계자는 "삼성전자가 10라인을 화성 내 다른 12인치 라인에서 물량이 넘쳐 소화하지 못하는 일부 공정을 대행하는 '엔드팹'으로 활용하는 방안도 검토 중"이라며 "10라인 투자 규모는 최소 1조 원을 넘어선 조 단위가 될 것"이라고 말했다.
10라인은 12인치 원판으로 D램을 생산 중인 11라인과 같은 건물에 있으며 크기 역시 11라인과 동일하다. 때문에 11라인이 12인치 원판 기준 월 10만 장 이상 D램을 생산할 수 있다는 점을 감안하면, 10라인 총 투자액은 최대 4조 원까지 갈 전망이다. D램을 12인치 기준 월 4∼5만 장 생산하는데 필요한 설비투자액은 2조 원가량이다.
삼성전자가 조 단위 반도체 투자에 본격 나선 데 따라 세메스 AP시스템 테스 아이피에스 아토 유진테크 피에스케이 에버테크노 국제엘렉트릭 등 장비협력사들의 수혜가 점쳐진다.
